近日，熱電集團發(fā)布了一款全新的材料表征儀器??K-Alpha。K-Alpha采用了當今飛速發(fā)展的X射線光電子能譜（XPS）技術，可對固體材料、絕緣體、半導體以及金屬材料表面向下幾納米厚度區(qū)域的化學組成進行定量分析，分析簡便、可靠，并且完全自動化。這一具有創(chuàng)新性的系統(tǒng)是專為高通量樣品分析設計的，它集成了獨特的數據處理運算法則，可提供全自動化的數據采集、分析和報告。該產品將在“Microscopy and Microanalysis 2006”上向外界展出。 該儀器革命性的電子光學設計使其具有極高的靈敏度，從而可以完成對于極其復雜材料表面的化學分析，既可應用于傳統(tǒng)材料，也可應用在目前正在興起的生物科技、納米科技和制藥工業(yè)等領域。K-Alpha的小斑點特性（small spot）以及它的高靈敏度可實現(xiàn)快速化學狀態(tài)成像。它的整體式離子源使系統(tǒng)具備高分辨率的深度剖析能力，從而實現(xiàn)了真正的三維分析。緊湊的外觀設計和系統(tǒng)內置的校正功能使K-Alpha成為一款低成本、高性能的表面化學分析工具。