11月17日消息，本周四，韓國科技部正式表示，本國科學家已經(jīng)成功研制出了全球最薄的金屬線，而這一成功也被視為足以震驚科技領域的重大突破。 　　english.yna.co.kr報道,此次研制出的金屬線寬度僅僅為2納米，由韓國首都首爾的Yonsei大學原子線研發(fā)中心所開發(fā)。 　　分析家指出，隨著這種超薄金屬線技術的面世，未來半導體產(chǎn)品將擁有更大的容量和更快的速度。據(jù)此次研究小組的12位科學家透露，通過此項技術，未來內(nèi)存芯片的尺寸將會極大程度上被降低，而半導體篆刻工藝也將進入全新的2納米時代。 　　目前為止，韓國三星旗下最為先進的16G內(nèi)存仍然使用著50納米設計標準。而業(yè)界目前所制定的目標，也只不過是成功過渡到25納米技術而已。此項研究始于2003年，由韓國科技部所贊助，總耗費資金達到了214萬美元。